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等離子清洗機

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等離子清洗機

等離子清洗機

等離子清洗機也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、涂覆等目的。
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CPC-A型等離子清洗機

CPC-A型等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-A
  • 產地:美國
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    采用美國霍尼韋爾真空壓力傳感器,性能穩定可靠; 采用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確; 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定; 弧形電極板設計,清洗更完全; 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹; 手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求任意切換; 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單; 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程; 無需任何耗材,使用成本低; 無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可; 整機保修一年。

CPC-B美國CIF等離子清洗機

CPC-B美國CIF等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-B
  • 產地:美國
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    等離子清洗機等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體柔柔沖洗被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學鍵發生重組,形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料,在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。等離子清洗機的清洗分類:  反應類型分類        等離子體與固體表面發生反應可以分為物理反應(離子轟擊)和化學反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面zui終被真空泵吸走;化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質,再由真空泵吸走揮發性的物質。        以物理反應為主的等離子體清洗,也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優點在于本身不發生化學反應,清潔表面不會留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學純凈性,腐蝕作用各向異性;缺點就是對表面產生了很大的損害,會產生很大的熱效應,對被清洗表面的各種不同物質選擇性差,腐蝕速度較低。以化學反應為主的等離子體清洗的優點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效,缺點是會在表面產生氧化物。和物理反應相比較,化學反應的缺點不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀形貌造成的影響有顯著不同,物理反應能夠使表面在分子級范圍內變得更加“粗糙”,從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用,即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕,兩種清洗可以互相促進,離子轟擊使被清洗表面產生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態,容易吸收反應劑,離子碰撞使被清洗物加熱,使之更容易產生反應;其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性,又有較好的方向性。        典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發生反應,而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產生的氧自由基非常活潑,容易與碳氫化合物發生反應,產生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發物,從而去除表面的污染物。  激發頻率分類  等離子態的密度和激發頻率有如下關系:  nc=1.2425×108v2  其中nc為等離子態密度(cm-3),v為激發頻率(Hz)。  常用的等離子體激發頻率有三種:激發頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,2.45GHz的等離子體為微波等離子體。  不同等離子體產生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很低,只有幾十伏,而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發生的反應為物理反應,射頻等離子體發生的反應既有物理反應又有化學反應,微波等離子體發生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產生的影響zui大,因而實際半導體生產應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。等離子清洗機應用領域:      包裝行業:專業針對UV OPP PP PET金銀卡 磨光,覆膜紙盒或紙箱上膠前的表面處理,經等離子處理后,可增加糊盒的牢固性,擺脫開膠煩惱。并可減少膠水使用量,有效降低成本。  印刷及噴碼行業:塑料 玻璃 金屬 復合材料等表面絲印,移印前等離子預處理,可提高材料表面對油墨的吸附力,滲透力。IC卡 標簽,日化用品容器。電線噴碼前等離子預處理,提高油墨吸附力。  塑料行業:塑料與塑料,橡膠,金屬,玻璃等粘結前預處理,可提高表面的粘結性能。手機電腦玩具等塑料外殼噴漆前預處理,提高油漆的附著力,防止掉漆。  日用品及家電行業:日用主家電產品在生產過程中的涂裝,粘接等工藝,使用等離子預處理提高材料表面的加工性能,提高粘接和涂裝的品質,別外等離子清洗作用使溶劑清洗不再需要,即環保又節省了大量的清洗干燥時間。  汽車行業: 1、EPDM膠條在噴涂潤滑涂層或植絨膠水以前的預處理工藝,借助等離子技術,膠條的預處理過程變得更加穩定高效,而且沒有磨損。 2、汽車車燈粘接,剎車片,雨刮,引擎控制器蓋,汽車儀表,汽車保險杠等等都可使用等離子表面處理,清潔,活化部件的表面,增強表面的粘結力,吸附力。 3、汽車部件噴漆前的表面活化,使用等離子處理,水性涂裝體系都可以做到無需底漆。 4、電子行業:電子元器件加工的等離子預處理,PCB的清洗,去靜電,LED支架,晶圓,IC等的清潔或是粘結等作用。 5、其它行業:化纖 紡織,航天航空,卷材涂裝等等。  電子行業:半導體材料光刻  膠清洗:光學材料鍍膜,加硬前清洗。  LCD玻璃印刷,貼合,封裝前清洗,LED點銀膠,引線鍵合,封膠前清洗,可提升產品質量。  PCB電路板孔化,除渣,綁定處理,可提升鍍銅結合力和焊接成功率。  橡膠塑料行業:提高材料粘接強度以及印刷油墨,涂層,鍍層附著力。  纖維紡織行業:生產電池用無紡布隔膜,水處理用中空纖維及各種天然纖維,合成纖維經等離子處理可改善和提高其滲透性,親水性,印染性等多種功能。精密儀器,機械及電器制造:繼電器觸點氧化層去除,精密零件表面油污,助焊劑等有機物清洗。電子點火器線圈骨架灌封環氧樹脂前處理提高其粘接性及結合力。  生物醫用材料:聚笨乙稀酶標板經等離子接枝處理,引入醛基,氨基,環氧基等活性官能團,可把酶牢牢地固定在載體上面,提高酶的固定;細胞培養皿,經等離子處理后,大大提高了貼壁培養細胞的能力。 生物傳感器的電極碳膜經過等離子活化,提高了酶和抗體固定的穩定性,實現電極重復使用。 血液過濾器的內壁和濾芯都需要等離子體的抗血凝處理,以提高其過濾能力和使用壽命。CPC-B美國CIF等離子清洗機產品特點:v 采用美國霍尼韋爾真空壓力傳感器,性能穩定可靠;v 采用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確;v 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定;v 弧形電極板設計,清洗更完全;v 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹;v 手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求切換;v 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單;v 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程;v 無需任何耗材,使用成本低;v 無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;v 整機保修一年。CPC-B美國CIF等離子清洗機技術參數:

美國CIF等離子清洗機CPC-A-13.56

美國CIF等離子清洗機CPC-A-13.56

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-A-13.56
  • 產地:北京
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    v 采用美國霍尼韋爾真空壓力傳感器,性能穩定可靠; v 采用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確; v 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定; v 專利的弧形電極板設計,清洗更完全; v 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹; v 手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求切換; v 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單; v 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程; v 無需任何耗材,使用成本低; v 無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可; v 整機保修一年。

美國賽福等離子清洗機CPC-B-13.56

美國賽福等離子清洗機CPC-B-13.56

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-B-13.56
  • 產地:北京
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    等離子清洗機CPC-B-13.56美國CIF公司所生產的等離子清洗機不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。等離子清洗機CPC-B-13.56清洗原理:    等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。    等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機CPC-B-13.56應用領域:    等離子清洗機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用,涉及材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學  生物學等不同領域,主要用于以下實驗:v 表面清潔  v 表面活化 v 鍵合 v 去膠 v 金屬還原 v 簡單刻蝕 v 器械的消毒v 去除表面有機物 v 疏水實驗v 鍍膜前處理等等離子清洗與傳統濕法清洗九大優勢:v 等離子體清洗技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗;v 等離子清洗是干性清洗,無需再次干燥處理,處理效率高;v 等離子清洗有效避免三氯乙烷等有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗對樣品的損壞;v 等離子清洗不會產生有害污染物,綠色環保無污染;v 等離子清洗更完全,不會因為清洗樣品的形狀和角度清洗不干凈;v 等離子清洗效率高,幾分鐘內即可完成;v 等離子清洗設備成本低,由于不使用價格昂貴的有機溶劑,所以整體成本低于傳統的濕法清洗;v 等離子清洗清潔衛生,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施;v 等離子體清洗可改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等。等離子清洗機CPC-B-13.56產品特點:v 采用美國霍尼韋爾真空壓力傳感器,性能穩定可靠;v 采用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確;v 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定;v 弧形電極板設計,清洗更完全;v 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹;v 手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求切換;v 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單;v 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程;v 無需任何耗材,使用成本低;v 無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;v 整機保修一年。等離子清洗機CPC-B-13.56技術參數:序號型號CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.561艙體尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm2艙體容積2.6L5.2L2.6L5.2L3射頻頻率40KHz13.56MHz4射頻功率10-200W無極可調10-150W無極可調5電 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ6電 流1.2A1.2A7時間設定1-99分59秒1-99分59秒8氣體穩定時間1分鐘1分鐘9真空度100pa以內100pa以內10激發方式電容式電容式11外形尺寸L*W*H 460X580X220mm520X580X285mm460X580X220mm520X580X285mm12整機重量15Kg20Kg18Kg25Kg 

中小型多功能等離子體清洗機PLUTO-30

中小型多功能等離子體清洗機PLUTO-30

  • 品牌: 上海PLUTOVAC
  • 型號: PLUTO-30
  • 產地:上海
  • 供應商:上海沛沅儀器設備有限公司

    專利氣體輸送系統,提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法 不同工藝模式(RIE、下游等離子體等)的柔性電極配置 獨特的射頻系統提供卓越的工藝重復性和處理效率 全自動處理能力 圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅動流程并提供實時流程信息 臺式設計需要較小的占地面積

氣體等離子系統 IoN Wave 10

氣體等離子系統 IoN Wave 10

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: IoN Wave 10
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司,在等離子體、真空系統、晶體生長等領域占據世界領先地位;PVA TePla是PVA的一個部門,專業制造等離子清洗機,廣泛應用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產等離子體處理設備的專家,PVA TePla可為半導體行來提供等離子體清洗設備和服務。IoN Wave 10Gas Plasma System氣體等離子系統實驗室或中試規模的臺式微波系統的理想選擇,阻灰化,晶圓清洗和開封的電子設備。

等離子清洗系統 PS 400, PS 400 H2

等離子清洗系統 PS 400, PS 400 H2

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: PS 400, PS 400 IL, PS 400 H2
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司,在等離子體、真空系統、晶體生長等領域占據世界領先地位;PVA TePla是PVA的一個部門,專業制造等離子清洗機,廣泛應用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產等離子體處理設備的專家,PVA TePla可為半導體行來提供等離子體清洗設備和服務。PS 400微波等離子清洗系統400系列芯片載體清洗PS 400 IL微波等離子體系統的400系列芯片載體清洗PS 400 H2微波等離子體系統的400系列芯片載體與氫氣發生器清洗

等離子清洗系統 GIGA 690

等離子清洗系統 GIGA 690

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: GIGA 690
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司,在等離子體、真空系統、晶體生長等領域占據世界領先地位;PVA TePla是PVA的一個部門,專業制造等離子清洗機,廣泛應用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產等離子體處理設備的專家,PVA TePla可為半導體行來提供等離子體清洗設備和服務。GIGA 690微波等離子系統芯片載體清洗

等離子清洗系統 GIGA 80 Plus

等離子清洗系統 GIGA 80 Plus

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: GIGA 80 Plus
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司,在等離子體、真空系統、晶體生長等領域占據世界領先地位;PVA TePla是PVA的一個部門,專業制造等離子清洗機,廣泛應用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產等離子體處理設備的專家,PVA TePla可為半導體行來提供等離子體清洗設備和服務。GIGA 80 Plus全自動微波等離子清洗機的個別基板。適用嵌入式解決方案或獨立的工具產品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封裝方面提供的半導體業改革產量方面的業界新標準:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等離子系統事業部在2012年臺灣SEMICON公布了下一代的片式處理等離子系統 (支持100x300mm的框架-高速等離子系統, 在產量方面樹立了業界的新標準。80 Plus High Speed (HS)正在申請專利, 對比與其他框架和基板片式處理等離子系統, 該設備是世界上唯一一個單腔體支持片尺寸轉換, 運輸和處理并提升了3倍UPH的設備。<該系統針對大批量的芯片制造商在引線鍵合前, 塑封前, 倒裝片底部填充前等應用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射頻(RF)和微波(MW)技術, 各根據客戶的需求提供最佳的工藝解決方案。在半導體微芯片封裝中, 引線鍵合前通過等離子提高焊盤清潔度是必不可少的。通過等離子清洗, 球剪切力和線拉力的改善是非常顯著的。等離子清洗和活化作用可應用于提高塑封料的粘合, 消除因為分層引起的收率損失。在倒裝片工藝中, 底部填充前微波等離子清洗已經成為提高收率必不可少的工藝。先進的倒裝片產品在市場中越來越重要, 微波等離子在處理芯片底部超小空隙上是無與倫比的。

CIF CPC-A等離子清洗機

CIF CPC-A等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CIF CPC-A
  • 產地:美國
  • 供應商:北京九瑞思科實驗設備有限公司

    等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。產品特點● 采用美國霍尼韋爾真空壓力傳感器,性能穩定可靠; ● 采用美國氣體浮子流量計,流量顯示準確; ● 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定; ● 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹; ● 手動、自動兩種工作模式,可根據客戶需求任意切換; ● 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設計,顯示清晰,操作簡單; ● 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程; ● 無需特殊進行維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;技術參數● 艙體的尺寸2758X110(直徑)mm(295X150(直徑)) ● 艙體容積:2.6L(5.2L) ● 射頻頻率:40KHz ● 設定時間 0-99分59秒 ● 氣體穩定時間:1分鐘 ● 等離子激發方式:電容式 ● 整機重量:15kg(20kg) ● 射頻功率:10-200W無極可調 等離子清洗機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用,涉及材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學 生物學等不同領域,主要用于以下實驗: ● 材料研究,表面改性達到親水的效果; ● 材料研究,用于材料表面的改性,達到一個疏水的效果,俗稱的荷葉效果; ● 材料老化的實驗,主要以氧離子進行相關的工藝設計; ● 材料的鍵合,通過儀器處理,增加材料表面的親和性,已達到快速鍵合的效果 ● 器械的消毒,消毒效果完美; ● 用于相關的鍍膜實驗。

DIENER PLASMA ATTO 等離子清洗機

DIENER PLASMA ATTO 等離子清洗機

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: ATTO
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    10.5 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 為手動型,配有 PC 和 PCCE 控制系統,主要用于以下領域:小批量生產分析 (REM, TEM)醫療技術滅菌研究和開發部門考古紡織技術塑料技術等離子設備 Atto,配有手動控制系統、等離子清洗器、等離子灰化器、等離子蝕刻機、等離子活化系統,用于小批量工藝研發、清洗、活化、蝕刻等離子設備 Atto,配有外部 PC 控制系統、等離子清洗器、等離子灰化器、等離子蝕刻機、等離子活化系統,用于小批量工藝研發、清洗、活化、蝕刻 - 等離子系統等離子設備 Atto,配有內置式 PC 控制系統、等離子清洗器、等離子灰化器、等離子蝕刻機、等離子活化系統,用于小批量工藝研發、清洗、活化、蝕刻 - 等離子系統系列Atto 手動控制Atto 外部PC控制Atto 集成PC控制控制系統手動型、通過模擬計時器測定工藝時間PC-控制系統 (Microsoft Windows XP)PC-控制系統 (Microsoft Windows CE)體積10.5L真空腔室玻璃材質、? 211 mm、長 300 mm樣品支架1個樣品支架氣源2 個由針型閥控制的氣體通道2 個由 MFCs 控制的氣體通道2 個由 MFCs 控制的氣體通道高頻電流發生器40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配真空泵5 m3/h外尺寸寬 525 mm、高 275 mm、深 450 mm電源電壓AC220V

Diener PlasmaBeam 等離子表面處理裝置

Diener PlasmaBeam 等離子表面處理裝置

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Diener PlasmaBeam
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大氣壓等離子清洗機 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果:PlasmaBeam清洗過的區域,噴水后沒有殘留水滴。更多應用請來電咨詢:021-61552797底材:鋁底材:塑料參數:型號PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO發生器頻率與功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反應氣休/冷卻氣體無油空壓機無油空壓機無油空壓機氣體壓力5-8bar5-8bar5-8bar氣體流量2m3/h2m3/h4m3/h離子束手柄單只直徑32mm長度270mm重量0.6kg電纜長度3m,Φ19mm(可訂制)處理的最大寬度為12mm兩只其它參數同前操作模式手動控制/遠程控制MS-Windows控制無有無電源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

PCE-8等離子清洗機

PCE-8等離子清洗機

  • 品牌: 沈陽科晶
  • 型號: PCE-8
  • 產地:
  • 供應商:沈陽科晶自動化設備有限公司

    PCE-8等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機,等離子腔體為Φ8.5"×12"的石英腔體,采用的射頻電源功率0-100W連續可調節。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時也可改變物體表面的性質(如親水和疏水性等),對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。主要特點1、采用6″彩色觸摸屏,可控制射頻功率、清洗時間、氣體流量、真空泵的開啟等。2、內部配有0-500mm/min的質量流量計,可以精確地控制進氣流量。技術參數1、電源:AC220V2、射頻功率:最大100W,可在0-100W間調節3、真空泵功率:<500W4、總功率:<600W5、射頻:13.56MHz6、等離子腔體:高純石英腔體,外徑Φ8.5",內徑Φ8.2",長12",采用鋁制折疊式法蘭進行真空密封,法蘭設有一個 Φ60mm的觀察窗口7、極限真空度:50mtorr8、通入氣體:可通入多種氣體,如N2、Ar、Air、H2、O2和混合氣體等等(根據材料性質所定)清洗及蝕刻產品規格尺寸:620mm×450mm×600mm標準配件1、直連式雙旋真空泵(240L/min)2、KF25波紋管3、KF25手動擋板閥可選配件1、300W、600W射頻電源(進行等離子刻蝕和等離子灰化等實驗)2、2″-6″石英舟(盛放基片)3、2-4通道浮子混氣系統4、2-4通道質子混氣系統

PCE-6V小型等離子清洗機

PCE-6V小型等離子清洗機

  • 品牌: 沈陽科晶
  • 型號: 小型等離子清洗機
  • 產地:
  • 供應商:沈陽科晶自動化設備有限公司

    PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術,采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵,清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時間內徹底清洗掉有機污染物,清洗程度可達到分子級。另外,其樣品臺可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現離子蝕刻。此外,其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。主要特點1、采用氣體作為清洗介質,避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。2、可短時間內徹底清洗掉有機污染物。3、清洗程度可達到分子級。4、可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。5、清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。6、樣品臺可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現離子蝕刻。7、廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。技術參數1、電壓:AC220V 10A2、消耗功率:<500W(包括真空泵)3、RF電源:輸出功率100W,輸出頻率13.56MHz4、腔體:Φ190mm×98mm5、石英管:Φ180mm×55mm,壁厚7mm6、內腔:Φ165mm×55mm7、清洗電極:Φ120mm8、樣品臺:Φ150mm,有效尺寸Φ140mm9、樣品臺與電極間距:15mm-50mm可調10、抽氣管:Φ12mm11、極限真空度:0.1Pa12、工作真空度:60Pa-500Pa13、氣路數量:2路(選裝)14、流量控制器數量:1、215、流量顯示儀:2通道16、氣路接口:Φ6mm17、加熱樣品臺:Φ140mm,加熱樣品溫度RT-600℃±1℃(選裝)18、冷卻水壓力:0.2KPa-0.4KPa19、工作環境:溫度5℃-35℃,濕度<80%(相對濕度)不結露,海拔高度0-2000m產品規格尺寸:245mm×235mm×460mm(不含真空泵)重量:20kg(不含真空泵)可選配件1、加熱樣品臺2、流量控制器(量程10、50、100,最多可增加2個通道)

等離子清洗機CPC-C-40K

等離子清洗機CPC-C-40K

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-C-40K
  • 產地:北京
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    美國CIF公司生產的等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。 工作原理等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。 應用領域等離子清洗機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用,涉及材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學、生物學等不同領域,主要用于以下實驗:             ◆ 表面清潔 ◆ 表面活化◆ 鍵合 ◆ 去 膠◆ 金屬還原 ◆ 簡單刻蝕◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有機物◆ 疏水實驗 ◆ 鍍膜前處理等功能特征◆ 采用美國霍尼韋爾(Honeywell)真空壓力傳感器,性能穩定可靠;◆ 采用美國德威爾(Dwyer)氣體浮子流量計,流量控制準確;◆ 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定;◆ 專利的弧形電極板設計,清洗更完全;◆ 電容式等離子激發方式;◆ 內置式等離子激發板;◆ 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹(石英艙可選);◆ 觸摸按鍵+4.3寸液晶顯示屏+雙浮子流量計組合系統控制;顯示清晰,操作簡單方便;◆ 兩種工作模式:手動、自動,可根據客戶需求任意切換;◆ 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程;◆ 樣品臺升降(可選)◆ 無需任何耗材,使用成本低;◆ 免維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;◆ 整機保修一年。技術參數:

等離子清洗機CPC-C-13.56

等離子清洗機CPC-C-13.56

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-C-13.56
  • 產地:北京
  • 供應商:華儀行(北京)科技有限公司

    美國CIF公司生產的等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。 工作原理等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。應用領域?等離子清洗機在科學研究各方面已經取得了廣泛的運用,涉及材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學、生物學等不同領域,主要用于以下實驗:◆ 表面清潔 ◆ 表面活化◆ 鍵合 ◆ 去 膠◆ 金屬還原 ◆ 簡單刻蝕◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有機物◆ 疏水實驗 ◆ 鍍膜前處理等功能特征◆ 采用美國霍尼韋爾(Honeywell)真空壓力傳感器,性能穩定可靠;◆ 采用美國德威爾(Dwyer)氣體浮子流量計,流量控制準確;◆ 獨特雙路氣體控制方式,氣體控制更加穩定;◆ 專利的弧形電極板設計,清洗更完全;◆ 電容式等離子激發方式;◆ 內置式等離子激發板;◆ 艙體、管路、閥體全部采用優質不銹鋼材質,防腐不生銹(石英艙可選);◆ 觸摸按鍵+4.3寸液晶顯示屏+雙浮子流量計組合系統控制;顯示清晰,操作簡單方便;◆ 兩種工作模式:手動、自動,可根據客戶需求任意切換;◆ 智能程序化控制,可編程自動完成整個實驗過程;◆ 樣品臺升降(可選)◆ 無需任何耗材,使用成本低;◆ 免維護,在日常使用過程中保持儀器清潔即可;              ◆ 整機保修一年。          技術參數:

Harrick基本型等離子清洗機

Harrick基本型等離子清洗機

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-32G-2
  • 產地:美國
  • 供應商:阜陽市微旺電子商務有限公司

    1.完全徹底地清除表面有機污染物。 2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。 3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。 4.綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。 5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。 6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。

Harrick擴展型等離子清洗機

Harrick擴展型等離子清洗機

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-002
  • 產地:美國
  • 供應商:阜陽市微旺電子商務有限公司

    1.完全徹底地清除表面有機污染物。 2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。 3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。 4.綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。 5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。 6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。

Harrick擴展型等離子清洗機

Harrick擴展型等離子清洗機

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-002-HP
  • 產地:美國
  • 供應商:阜陽市微旺電子商務有限公司

    1.完全徹底地清除表面有機污染物。 2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。 3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。 4.綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。 5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。 6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。

美國CIF等離子清洗機

美國CIF等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-A
  • 產地:承德
  • 供應商:賽福儀器承德有限公司

    CIF等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。

美國CIF等離子清洗機

美國CIF等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-B
  • 產地:承德
  • 供應商:賽福儀器承德有限公司

    CIF等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。

美國CIF等離子清洗機

美國CIF等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-C
  • 產地:承德
  • 供應商:賽福儀器承德有限公司

    CIF等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。

美國CIF等離子清洗機

美國CIF等離子清洗機

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-D
  • 產地:承德
  • 供應商:賽福儀器承德有限公司

    CIF等離子清洗機(plasma cleaner)不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用原裝進口。

美國CIF-轉瓶等離子清洗機CPC-C-40KHz

美國CIF-轉瓶等離子清洗機CPC-C-40KHz

  • 品牌: 美國賽福
  • 型號: CPC-C-40KHz
  • 產地:承德
  • 供應商:賽福儀器承德有限公司

    CIF轉瓶等離子清洗機,專為處理顆粒、粉末樣品而設計!在等離于體作用下,一些材料很容易發生斷鍵和聚合,CIF轉瓶等離子清洗機應用可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉末材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理顆粒、粉末樣品的問題。

Diener低壓等離子設備 等離子清洗機 ZEPTO

Diener低壓等離子設備 等離子清洗機 ZEPTO

德國 Diener 低壓等離子設備 等離子清洗機 FEMTO

德國 Diener 低壓等離子設備 等離子清洗機 FEMTO

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: FEMTO
  • 產地:德國
  • 供應商:旭阿科技(上海)有限公司

    2.2L-3L腔體,小型精密桌面型設備,高性價比。 半自動與全自動可選, 發生器頻率可選。 提供工藝支持與樣品測試。

德國原裝進口 Diener等離子清洗機 ATTO

德國原裝進口 Diener等離子清洗機 ATTO

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: ATTO
  • 產地:德國
  • 供應商:旭阿科技(上海)有限公司

    10.5L腔體,小型精密桌面型設備,高性價比。 半自動與全自動可選, 發生器頻率可選。 提供工藝支持與樣品測試。

德國原裝進口 Diener 等離子清洗機PICO

德國原裝進口 Diener 等離子清洗機PICO

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: PICO
  • 產地:德國
  • 供應商:旭阿科技(上海)有限公司

    5~8L腔體,小型精密桌面型設備,高性價比。 半自動與全自動可選, 發生器頻率可選。 提供工藝支持與樣品測試。

德國原裝進口 Diener 等離子清洗機 Tetra 30

德國原裝進口 Diener 等離子清洗機 Tetra 30

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Tetra 30
  • 產地:德國
  • 供應商:旭阿科技(上海)有限公司

    34L腔體,超過34L可定制大腔體, 生產型設備,高性價比。 半自動與全自動可選, 發生器頻率可選。 提供工藝支持與樣品測試。

多功能桌面型等離子清洗機PLUTO-M

多功能桌面型等離子清洗機PLUTO-M

  • 品牌: 上海PLUTOVAC
  • 型號: PLUTO-M
  • 產地:上海
  • 供應商:上海沛沅儀器設備有限公司

    PLUTO-M是一種非破壞性的表面處理設備,它是利用能量轉換技術,在一定真空負壓的狀態下,以電能將氣體轉化為活性極高的氣體等離子體,該等離子體以一定能量作用于樣品表面,引起分子結構改變和表面形貌的納米級變化,從而達到對樣品表面進行改性和分解污染物的目的。 PLUTO-M是一款將真空式等離子體技術應用于各種不同領域的研究性操作平臺,除了實現常規清潔樣品和表面改性的功能外,通過添加不同的功能模塊,可以實現等離子體鍍膜,等離子體合成反應,等離子體純化等功能。極大的拓展該設備的應用領域。 等離子表面處理技術現已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。PLUTO-M小型等離子表面處理設備以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應用于科研及小批量生產場合。

Harrick基本型等離子清洗機PDC-32G-2

Harrick基本型等離子清洗機PDC-32G-2

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-32G-2
  • 產地:美國
  • 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司

    1.完全徹底地清除表面有機污染物。 2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。 3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。 4.綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。 5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。 6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。

Harrick擴展型等離子清洗機PDC-002

Harrick擴展型等離子清洗機PDC-002

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-002
  • 產地:美國
  • 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司

    Harrick擴展型等離子清潔器是一種緊湊的、廉價的桌面型等離子儀器,帶有鉸鏈門、觀察窗和精細控制計量閥,適用于納米級表面清潔和小樣品的激活。

Harrick高功率型等離子清洗機PDC-002-HP

Harrick高功率型等離子清洗機PDC-002-HP

  • 品牌: 美國Harrick
  • 型號: PDC-002-HP
  • 產地:美國
  • 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司

    1.完全徹底地清除表面有機污染物。 2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。 3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。 4.綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。

PLUTO-MH等離子表面處理系統(實驗平臺)

PLUTO-MH等離子表面處理系統(實驗平臺)

  • 品牌: 上海PLUTOVAC
  • 型號: PLUTO-MH
  • 產地:上海
  • 供應商:上海沛沅儀器設備有限公司

    PLUTO-MH型等離子體表面處理系統是針對于高校,科學研究所和企業實驗室,或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息,分析應用需求,將多年設計和制造經驗應用于小型化,多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念,零配件的選用,都傾注大量精力。 針對用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規性能的同時,擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學反應,粉體等離子體處理等多種能力。

PVA TePla - 等離子清洗系統

PVA TePla - 等離子清洗系統

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: 80 Plus HS / IoN Optim us 100
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    產品簡介獨有的微波等離子(化學)清洗方式有別于傳統的射頻等離子(物理)清洗方式,微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位,實現清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋,并且不會改變表面的粗糙度。隨著封裝技術的進步,在倒裝和疊晶片等封裝中,射頻等離子清洗并不能達到工藝要求,微波等離子清洗的特點和優勢使得更多用戶的選擇和使用PVA TePla。等離子清洗在倒裝芯片封裝技術的已成為必須的過程, 提高產量。先進的倒裝芯片設備在業界獲得顯著性,在穿透分鐘的差距的模具下,微波等離子體過程是無與倫比的。根據不同模具的體積,所有表面均可被完全激活和控調。PVA TePla 的微波等離子體一向可執行,無空隙的倒裝芯片底部填充膠,最佳的附著力和顯著增強的吸濕排汗速度。適合程度的應用遠遠超出了芯片尺寸20x20mm和50μm以下的bumps。   PVA TePla等離子清洗系統在半導體的應用:? 射頻等離子在IC封裝的應用? 微波等離子在倒裝芯片(Flip chip)工藝的應用80 Plus HS微波等離子系統是PVA TePla在微晶片封裝方面提供的半導體業改革。80 Plus High Speed (HS)正在申請專利,對比與其他框架和基板片式處理等離子系統,該設備是世界上唯一一個單腔體支持片尺寸轉換,運輸和處理并提升了3倍UPH的設備。該系統針對大批量的芯片制造商在引線鍵合前、塑封前、倒裝片底部填充前等應用中提升收率和可靠性。產量方面的業界新標準:? 高效率 ? 支持 100x300mm 框架? 最高UPH達到900 strips/Hr80 Plus HS微波等離子系統* 即將推出新型的Inline等離子清洗系統,更高的UPH,更高的性價比。敬請期待PVA TePla 其它等離子清洗系統產品:!IoN Optimus 100射頻等離子系統GIGA 690微波等離子系統80 Plus微波等離子系統除半導體外的其它應用:生命科學 (LIFE SCIENCE)氣體等離子體(Gas Plasma)技術常用在精密清洗和激活,去污的表面,促進功能的生物分子的粘附和結合特定的化學蒸氣滅菌的生物體內和體外的醫療設備。電子 (ELECTRONICS)等離子用于在電子工業中各種各樣的應用程序,包括從密封劑和粘合劑的粘合促進,提高釋放光盤母版壓模上的物質。工業等離子體應用 (INDUSTRIAL PLASMA APPLICATIONS)PVA TePla 是微波等離子體處理用于制造微芯片、MEMS器件、光伏電池、平板顯示器和探測器,和大多數工業應用的市場領導者。? 增進附著力(ADHESION PROMOTION)? 重要的清潔(CRITICAL CLEANING)IoN 100 等離子體系統IoN 100 是專為滿足廣大客戶不斷變化的需求而設計,它強調多功能性和控制他們的表面處理需求。其功能提供最先進的過程控制狀態,故障安全系統報警和數據采集軟件。這使系統在生命科學產業,以滿足嚴格的質量控制程序。氣體等離子體系統 - 等離子體筆Atmospheric Plasma System - Plasma Pen? 生命科學與醫療器械產品? 汽車、航天、航海方面? 芯片級器件? 電子產品包裝? 平板顯示器? 電線、電纜、光纖? 玻璃制造

PVA TePla America - 等離子表面清洗系統

PVA TePla America - 等離子表面清洗系統

  • 品牌: 德國PVA TePla
  • 型號: IoN 3B
  • 產地:德國
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    產品簡介全新!INLINE高產量PECVD系統 (Inline High Capacity PECVD Systems)ILHC是一個連續的高速真空等離子系統。它提供了等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD),蝕刻,清洗和活化在高生產環境全過程控制。ILHC是為了滿足廣大客戶的高產能量的要求。它提供了快速的工藝處理時間,卓越的均勻性和精確的厚度控制。它提供先進的過程控制,故障安全報警和完整的數據采集和報告軟件系統。ILHC使用射頻(RF)產生的等離子體,結合獨特的傳送系統中清楚地闡明和完全集成封裝。該設計便于安裝和維護。特性:? 連續流處理? 定制托盤和基板夾具? 可配置的等離子源設計從小到大可擴展? 三維零件或超高容量小零件加工? 根據工藝要求,靈活地用RF功率發生器和AMU? GUI圖形用戶界面軟件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101? 自家開發的用戶訪問控制系統? 可準確地控制Lot-to-Lot的重復性? 通過以太網遠程統計過程控制監控? 具即時診斷功能和警報記錄? 配方編輯器提供了快速和靈活的步控制功能? 大LCD觸摸設置,Windows?的控制面板和鍵盤? 免人手操作 可進行多種類界面 * 輸出功率高達 :每月500,000 devices(基本尺寸 :1” x 1” Devices) * 根據界面的形狀:非均勻性降低至5%  RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統 IoN 3B 特性:腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm功率: 100 Watts氣體噴淋: Integrated door單個氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm可視窗口: 45mm dia.顯示屏: 7" touch screen, PC Interface編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can壓力測量: Pirani Gauge IoN 7B 特性:腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm功率: 200 Watts氣體噴淋: Integrated door單個氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm可視窗口: 45mm dia.顯示屏: 7" touch screen, PC Interface編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can壓力測量: Pirani Gauge

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